ASML 獲利大幅超預期，客戶訂單意向已延伸至 2030 年

荷蘭半導體設備商 ASML 週三公布第三季財報，淨利高達 49.6 億歐元，遠超市場預估的 41 億歐元，一口氣把預期值打掉兩成以上。更讓投資人振奮的是，執行長 Christophe Fouquet 親口說，已有客戶表達 2029 年、甚至 2030 年的訂單意向——這等於是提前四到五年鎖定產能，顯示 AI 拉動的晶片需求並非曇花一現。

ASML 在全球半導體業有一個無人能取代的地位：它是世界上唯一能生產「極紫外光微影機（EUV）」的公司。這台機器是台積電、三星等晶片廠製造最先進晶片的關鍵工具，少了它，先進邏輯晶片根本做不出來。因為這個獨占地位，法人圈把 ASML 的財報當成 AI 晶片需求的晴雨表來解讀。

Fouquet 在財報聲明裡說得直接：客戶持續上調短中期設備需求預測，背後驅動力是他們對 AI 相關投資規模與持續時間的判斷。他同時坦承，目前規劃給 2027 年與 2028 年的供給量，仍無法完全滿足客戶需求。公司正在評估如何讓 2028 年的產能增幅超越先前已公告的 30%。

ASML 今年已三度上修全年業績展望。這次它再度調高 2026 年全年營收預測下限，從 430 億歐元提升至 440 億歐元，區間上限維持 450 億歐元。第四季展望同樣強勁，營收預測區間上限達 152 億歐元，超過市場共識的 142 億歐元。財報公布後，ASML 歐股早盤上漲約 2%，今年以來累計漲幅已達 56%。

這一季還有個值得注意的進展：三星與台積電，這兩家全球最大的晶片代工廠，在本季先後確認將採用 ASML 的下一代機型 High NA EUV。這款新機被分析師視為 ASML 未來成長的關鍵產品，代表其下一個十年的技術升級週期正式啟動。

中國市場方面，ASML 維持先前的預測，預計中國業務佔全年總營收約 20%。由於受到出口管制限制，ASML 無法向中國銷售 EUV 機台，部分 DUV（深紫外光）機台也在禁止之列。雖然外界曾傳出中國有廠商嘗試自製 DUV 設備，但分析師對中國能否真正量產並擴大規模抱持疑問。

接下來的看點有兩個：第一，ASML 如何實現它聲稱正在評估的 2028 年產能擴張，這涉及建廠與供應鏈的巨大投資，細節尚未公開；第二，High NA EUV 機台能否如期量產並打入台積電與三星的生產線，將是決定 ASML 下一輪成長曲線斜率的關鍵。